マイクロン・テクノロジー<MU>が上昇。日本政府から2000億円の支援を受け、同社の広島工場で次世代DRAMの生産を目指すと伝わった。ブルームバーグが関係者の話として伝えた。 今回の投資でマイクロンは広島工場にオランダのASML<ASML>の極端紫外線(EUV)露光装置や東京エレクトロン<8035>の関連装置を導入し、DRAM量産体制を構築する。 マイクロンは、日本政府からの緊密な支援を得て1ガンマ世代の技術に向こう数年間で最大5000億円を投資する計画を発表した。1ガンマの次世代DRAMは広島工場で生産する計画。 岸田首相は会見で「マイクロンの取り組みを日本政府として支援する。日米半導体協力の好事例だ」と述べた。 (NY時間09:51) マイクロン<MU> 68.02(+3.10 +4.78%) MINKABU PRESS編集部 野沢卓美
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